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ASMPT 借助 Renishaw 光學(xué)尺技術(shù)強化高性能運動控制
Dressing udstyr   2025年08月19日 星期二 瀏覽人次: [2936]

在當(dāng)今半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的奈米級別發(fā)展下,後段制程設(shè)備面臨著精度、生產(chǎn)力和穩(wěn)定性等挑戰(zhàn)。光學(xué)尺作為運動控制中至關(guān)重要的元件之一,需要不斷更新技術(shù)并推出新產(chǎn)品,以滿足市場的嚴苛要求。

ASMPT新加坡總部,圖二為Renishaw光學(xué)尺系列
ASMPT新加坡總部,圖二為Renishaw光學(xué)尺系列

總部位於新加坡的 ASMPT 致力開發(fā)先進的半導(dǎo)體組裝和封裝設(shè)備,與 Renishaw合作已經(jīng)超過 25 年,在光學(xué)尺產(chǎn)品應(yīng)用、客制化方案和設(shè)備檢測方案等領(lǐng)域累積豐富的合作經(jīng)驗;光學(xué)尺作為運動控制系統(tǒng)中的重要元件,規(guī)格必需不斷升級以滿足 ASMPT 因應(yīng)市場的需求。

在選擇光學(xué)尺產(chǎn)品時,必須要考慮幾個關(guān)鍵要素:速度、抖動、光學(xué)尺體積,與安全和規(guī)性。為了滿足這些要求,光學(xué)尺廠商需要不斷研發(fā)創(chuàng)新,以提高速度、降低抖動、減小體積和重量,并確保產(chǎn)品符合相關(guān)的安全標(biāo)準(zhǔn)和驗證要求。而 ASMPT 多年來采用多款 Renishaw 光學(xué)尺產(chǎn)品,從 RGH 到 RESOLUTE 系列,再到近期的 ATOM DX 微型系列和 VIONiC 高性能系列等,應(yīng)用在不同階段的後段制程設(shè)備上,包括 INFINITE 12 英寸晶片鍵合機,專為一般 IC 封裝而設(shè)計。

除了光學(xué)尺外,ASMPT 亦使用 Renishaw XL-80 雷射干涉儀和 XM-60 多光束校正儀等校正設(shè)備,在設(shè)備生產(chǎn)和定期預(yù)防性維護方面發(fā)揮著重要作用。例如,他們使用XL-80 雷射干涉儀進行檢測和校正,以確保設(shè)備在運作過程中的準(zhǔn)確性和穩(wěn)定性。此外,Renishaw XM-60 多光束校正儀具可以同時量測六個自由度的誤差,且只需進行一次設(shè)定。都有助於了解每臺加工設(shè)備的精度等級和加工能力,確保設(shè)備的正確運作和生產(chǎn)效率。

ASMPT 研發(fā)部總裁蔡秉剛博士表示,可以預(yù)見光學(xué)尺的規(guī)格要求將會朝著高速度、高解析度和低訊號抖動的趨勢發(fā)展,對於控制器和光學(xué)尺來說都是一大挑戰(zhàn),而 ASMPT從來沒有懷疑過 Renishaw 的實力,相信其能繼續(xù)提供合適的光學(xué)尺產(chǎn)品。

為了延續(xù)與 ASMPT 長期合作的成功經(jīng)驗,讓更多業(yè)界夥伴深入了解精密量測技術(shù)於半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的應(yīng)用,Renishaw 將於 9 月 10 日至 12 日叁加 SEMICON Taiwan 國際半導(dǎo)體展,誠摯邀請業(yè)界先進蒞臨展位,共同探索如何透過創(chuàng)新量測技術(shù),邁向更高的制程精度與良率。

展覽訊息

· 展覽名稱:SEMICON Taiwan 國際半導(dǎo)體展

· 展覽時間:9月10 日(三) -12日(五)

· 展覽時間:9月10 -11日, 10:00-17:00;9月12日, 10:00-16:00

· 展覽地點:臺北南港展覽館1館 & 2館 (臺北市南港區(qū)經(jīng)貿(mào)二路1號)

· 展出位置:【Renishaw】南港展覽館二館四樓 S7458 攤位

· 展出重點:涵蓋 ASMPT 所采用的運動控制光學(xué)尺與設(shè)備校正系統(tǒng),并特別展出應(yīng)用於材料分析的拉曼光譜儀。

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