完全整合的UV奈米壓印微影(UV-NIL) Track System結(jié)合EVG微影與光阻製程專長(zhǎng)；應(yīng)用領(lǐng)域涵蓋光子、微機(jī)電和奈米機(jī)電元件等
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| EV Group的HERCULES NIL track system提供適用於新興的光子元件高量產(chǎn)完整的與專屬的UV-NIL解決方案，結(jié)合晶圓清洗、光阻塗佈、烘烤的前處理步驟和EVG獨(dú)有的Smart NIL大面積奈米壓印微影製程在單一平臺(tái)上。 |
微機(jī)電、奈米技術(shù)、半導(dǎo)體晶圓接合暨微影技術(shù)設(shè)備商EV Group（EVG）推出HERCULES NIL奈米壓印微影整合系統(tǒng) （track system）。這個(gè)完全整合的Track System結(jié)合晶圓清洗、光阻塗佈、烘烤的前處理步驟和EVG獨(dú)有的Smart NIL大面積奈米壓印微影（NIL）製程在單一平臺(tái)上，HERCULES NIL 系統(tǒng)擁有高產(chǎn)能與產(chǎn)量，並提供適用於新興的光子元件高量產(chǎn)（HVM）完整的與專屬的UV-NIL解決方案。
該系統(tǒng)可壓印出從數(shù)十奈米到幾微米的結(jié)構(gòu)，以改變或提升表面或元件本身的光學(xué)反應(yīng)，例如抗反射層（anti-reflective layer）、彩色和偏光濾光片、導(dǎo)光板、用於發(fā)光二極體（LED）製程的圖案化藍(lán)寶石基板(patterned sapphire substrate)等。而其他快速竄起的新型NIL應(yīng)用還包括有微機(jī)電、奈米機(jī)電、生化和奈米電子等應(yīng)用。
EV Group執(zhí)行技術(shù)總監(jiān)Paul Lindner表示：「EVG有『3i』哲學(xué)：發(fā)明（invent）、創(chuàng)新（innovate）和執(zhí)行（implement）；而HERCULES NIL系統(tǒng)將EVG的『3i 』哲學(xué)表現(xiàn)得淋漓盡致。EVG是早期開發(fā)NIL設(shè)備的先鋒，擁有超過10年的研發(fā)經(jīng)驗(yàn)並持續(xù)提升設(shè)備效能，而目前我們已將NIL技術(shù)推進(jìn)至成熟的水平，在許多應(yīng)用上可提供比傳統(tǒng)光學(xué)微影技術(shù)更顯著的優(yōu)勢(shì)。此外，Hercules NIL系統(tǒng)也可實(shí)現(xiàn)更廣泛的應(yīng)用，尤其是光子和生化技術(shù)領(lǐng)域的應(yīng)用將受益更多，最終更可將NIL技術(shù)在擁有成本和解析度方面的優(yōu)勢(shì)發(fā)揮在量產(chǎn)上。」
HERCULES NIL系統(tǒng)於單一整合的系統(tǒng)中結(jié)合了EVG在NIL技術(shù)、光阻製程和高量產(chǎn)解決方案等眾多專精知識(shí)，可提供產(chǎn)量（每小時(shí)可產(chǎn)出40片8吋晶圓）。該系統(tǒng)是一個(gè)可高度靈活配置和模組化的平臺(tái)，可適用於各種壓印材料和不同大小的結(jié)構(gòu)，為客戶提供更大的彈性來(lái)因應(yīng)不同製程的需求。高度整合的平臺(tái)也將顆粒污染的風(fēng)險(xiǎn)降到最低。EVG全新的HERCULES NIL系統(tǒng)現(xiàn)已出貨，並已獲得光子元件製造大廠安裝使用和投入高量產(chǎn)階段。
產(chǎn)品特色
?全自動(dòng)化UV-NIL壓印和低力道的脫模技術(shù)
?可處理直徑大至8吋的基板
?全面覆蓋壓印的方法以避免步進(jìn)式重覆曝光製程受限於處理面積而產(chǎn)生的圖樣拼接錯(cuò)誤
?可量產(chǎn)小至40奈米及更小的奈米結(jié)構(gòu)
?塗布均勻度+/- 1％，可將殘留層的厚度降至最薄，也可將整片晶圓製程的結(jié)構(gòu)變異控制到最小
?廣泛支援不同尺寸和形狀的結(jié)構(gòu)，並且包括3-D
?可用於各種極不平坦（粗糙）表面
?可製造多次使用的軟模以延長(zhǎng)母模使用壽命
