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    Advanced Energy推出全新射頻電源供應(yīng)器 滿(mǎn)足新一代蝕刻制程需求
    Dressing udstyr   2021年01月22日 星期五 瀏覽人次: [5574]

    電源轉(zhuǎn)換、測(cè)量和控制系統(tǒng)解決方案開(kāi)發(fā)商Advanced Energy Industries, Inc.宣布推出一款全新的Paramount HP 10013射頻(RF)電源供應(yīng)器。新產(chǎn)品推出之後,該公司旗艦產(chǎn)品Paramount RF電源供應(yīng)器系列將會(huì)有更多型號(hào)可供選擇。

    全新的Paramount HP 10013射頻(RF)電源供應(yīng)器可確保Paramount 13.56MHz平臺(tái)提供高達(dá)10kW的輸出功率,能以較低的平均功率提供高能脈沖,確保脈沖功率的準(zhǔn)確性和可重復(fù)性。
    全新的Paramount HP 10013射頻(RF)電源供應(yīng)器可確保Paramount 13.56MHz平臺(tái)提供高達(dá)10kW的輸出功率,能以較低的平均功率提供高能脈沖,確保脈沖功率的準(zhǔn)確性和可重復(fù)性。

    Advanced Energy的電漿制程設(shè)備電源系統(tǒng),適用於半導(dǎo)體蝕刻、介電質(zhì)蝕刻、沉積、濺鍍、離子植入等半導(dǎo)體和電漿薄膜制程設(shè)備,Paramount HP 10013沿用先進(jìn)的電漿制程電源技術(shù),且再進(jìn)一步提升效能。

    例如:Paramount HP 10013可確保Paramount 13.56MHz平臺(tái)提供高達(dá)10kW的輸出功率,這樣的好處是,能以較低的平均功率提供高能脈沖,確保脈沖功率的準(zhǔn)確性和可重復(fù)性。較高的功率則可提升電漿密度和離子能量,支援更快更深的電漿蝕刻制程步驟,并縮短沉積制程時(shí)間,滿(mǎn)足先進(jìn)的高深寬比蝕刻制程和新一代應(yīng)用的要求。

    Advanced Energy半導(dǎo)體及運(yùn)算產(chǎn)品資深??總裁Peter Gillespie表示:「目前市場(chǎng)上的許多產(chǎn)品,包括消費(fèi)產(chǎn)品,娛樂(lè)設(shè)備、工業(yè)制品、電腦系統(tǒng)以及運(yùn)輸工具,幾??全部都要采用積體電路。按照這個(gè)發(fā)展趨勢(shì)看,高精度制程設(shè)備電源系統(tǒng)的應(yīng)用將會(huì)越來(lái)越廣泛。我們的產(chǎn)業(yè)必須滿(mǎn)足這些不斷增加的需求,克服各式各樣的挑戰(zhàn)。Advanced Energy的Paramount產(chǎn)品系列率先采用脈沖射頻技術(shù),是業(yè)內(nèi)首系列可量產(chǎn)的全數(shù)位射頻電源供應(yīng)系統(tǒng)。Advanced Energy今次推出更高功率的產(chǎn)品,讓我們的客戶(hù)可以利用創(chuàng)新的技術(shù)開(kāi)發(fā)更為復(fù)雜的三維度系統(tǒng)架構(gòu)和全新的物料?!?/p>

    Paramount平臺(tái)的數(shù)位架構(gòu)可支援精確的電源管理,而且無(wú)需更換硬體便可更快將新的功能整合一起。全數(shù)位控制功能可以追蹤電漿變化作出動(dòng)態(tài)及即時(shí)的偵測(cè),而且可以提供大功率的輸出,并確保效能的可重復(fù)性。內(nèi)建的數(shù)位介面可確保平臺(tái)與其他射頻電源供應(yīng)器同步作業(yè),也可無(wú)縫連接Advanced Energy一系列的Navigator和Navigator II數(shù)位匹配網(wǎng)路。

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