在當(dāng)今半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的奈米級(jí)別發(fā)展下，後段製程設(shè)備面臨著精度、生產(chǎn)力和穩(wěn)定性等挑戰(zhàn)。光學(xué)尺作為運(yùn)動(dòng)控制中至關(guān)重要的元件之一，需要不斷更新技術(shù)並推出新產(chǎn)品，以滿足市場(chǎng)的嚴(yán)苛要求。

ASMPT新加坡總部，圖二為Renishaw光學(xué)尺系列

總部位於新加坡的 ASMPT 致力開發(fā)先進(jìn)的半導(dǎo)體組裝和封裝設(shè)備，與 Renishaw合作已經(jīng)超過(guò) 25 年，在光學(xué)尺產(chǎn)品應(yīng)用、客製化方案和設(shè)備檢測(cè)方案等領(lǐng)域累積豐富的合作經(jīng)驗(yàn)；光學(xué)尺作為運(yùn)動(dòng)控制系統(tǒng)中的重要元件，規(guī)格必需不斷升級(jí)以滿足 ASMPT 因應(yīng)市場(chǎng)的需求。

在選擇光學(xué)尺產(chǎn)品時(shí)，必須要考慮幾個(gè)關(guān)鍵要素：速度、抖動(dòng)、光學(xué)尺體積，與安全和規(guī)性。為了滿足這些要求，光學(xué)尺廠商需要不斷研發(fā)創(chuàng)新，以提高速度、降低抖動(dòng)、減小體積和重量，並確保產(chǎn)品符合相關(guān)的安全標(biāo)準(zhǔn)和驗(yàn)證要求。而 ASMPT 多年來(lái)採(cǎi)用多款 Renishaw 光學(xué)尺產(chǎn)品，從 RGH 到 RESOLUTE 系列，再到近期的 ATOM DX 微型系列和 VIONiC 高性能系列等，應(yīng)用在不同階段的後段製程設(shè)備上，包括 INFINITE 12 英寸晶片鍵合機(jī)，專為一般 IC 封裝而設(shè)計(jì)。

除了光學(xué)尺外，ASMPT 亦使用 Renishaw XL-80 雷射干涉儀和 XM-60 多光束校正儀等校正設(shè)備，在設(shè)備生產(chǎn)和定期預(yù)防性維護(hù)方面發(fā)揮著重要作用。例如，他們使用XL-80 雷射干涉儀進(jìn)行檢測(cè)和校正，以確保設(shè)備在運(yùn)作過(guò)程中的準(zhǔn)確性和穩(wěn)定性。此外，Renishaw XM-60 多光束校正儀具可以同時(shí)量測(cè)六個(gè)自由度的誤差，且只需進(jìn)行一次設(shè)定。都有助於了解每臺(tái)加工設(shè)備的精度等級(jí)和加工能力，確保設(shè)備的正確運(yùn)作和生產(chǎn)效率。

ASMPT 研發(fā)部總裁蔡秉剛博士表示，可以預(yù)見光學(xué)尺的規(guī)格要求將會(huì)朝著高速度、高解析度和低訊號(hào)抖動(dòng)的趨勢(shì)發(fā)展，對(duì)於控制器和光學(xué)尺來(lái)說(shuō)都是一大挑戰(zhàn)，而 ASMPT從來(lái)沒有懷疑過(guò) Renishaw 的實(shí)力，相信其能繼續(xù)提供合適的光學(xué)尺產(chǎn)品。

為了延續(xù)與 ASMPT 長(zhǎng)期合作的成功經(jīng)驗(yàn)，讓更多業(yè)界夥伴深入了解精密量測(cè)技術(shù)於半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的應(yīng)用，Renishaw 將於 9 月 10 日至 12 日參加 SEMICON Taiwan 國(guó)際半導(dǎo)體展，誠(chéng)摯邀請(qǐng)業(yè)界先進(jìn)蒞臨展位，共同探索如何透過(guò)創(chuàng)新量測(cè)技術(shù)，邁向更高的製程精度與良率。

展覽訊息

? 展覽名稱：SEMICON Taiwan 國(guó)際半導(dǎo)體展

? 展覽日期：9月10 日(三) -12日(五)

? 展覽時(shí)間：9月10 -11日, 10:00-17:00；9月12日, 10:00-16:00

? 展出位置：【Renishaw】南港展覽館二館四樓 S7458 攤位

? 展出重點(diǎn)：涵蓋 ASMPT 所採(cǎi)用的運(yùn)動(dòng)控制光學(xué)尺與設(shè)備校正系統(tǒng)，並特別展出應(yīng)用於材料分析的拉曼光譜儀。