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    面對FO-WLP/PLP新制程技術(shù)的挑戰(zhàn)與問題
    [作者 盧傑瑞]   2020年01月15日 星期三 瀏覽人次: [29012]

    就特性上來說,F(xiàn)O-WLP/PLP是一種具有比覆晶封裝具有更好電氣特性的封裝觀念技術(shù),并且在面對晶片薄化要求時,也具有較小熱變形的特性。從大約五年前開始,逐漸擴展應(yīng)用在RF,功率放大器,基頻等等的晶片產(chǎn)品上。更進一步的,從今年開始,由于出色的電氣特性和布線密度,F(xiàn)O-WLP/PLP更被應(yīng)用在自動駕駛必或缺的雷達(dá)半導(dǎo)體上。


    與常規(guī)的覆晶封裝相比,雖然FO-WLP/PLP能夠達(dá)到更高性能和更薄的晶片體積,但是因為來自于FO-WLP/PLP的制程良率和材料等等的相關(guān)問題,也大程度的影響了FO-WLP/PLP生產(chǎn)成本。


    當(dāng)然,在一項新的生產(chǎn)技術(shù)在被導(dǎo)入時,常常會面臨著許多的課題需要被解決,包括了生產(chǎn)設(shè)備、材料、制程手法等。當(dāng)然,今天的備受注目的FO-WLP/PLP也是存在著這些無法避免的挑戰(zhàn)。
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